檢索結果:共3筆資料 檢索策略: "Hung-Fei Kuo".eadvisor (精準) and year="106"
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在半導體的先進製程中,對準誤差量測技術(Overlay Metrology)為關鍵的製程步驟,準確地測量出積體電路層與層之間的對準誤差(Overlay),可以有效減少製程的重工率進而降低製程成本。D…
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由於極紫外光微影系統技術開發上仍有困難,無法立即取代現有生產線上ArF-193nm浸潤式微影系統微影製程生產,因此吸引許多研究者尋找改善方案,其中可利用光源光罩最佳化程序搜尋最佳的光罩圖案設計與對應…
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雷射直寫技術之於黃光微影製程的優勢是無需光罩,而以雷射光束聚焦在光阻上直接定義電路圖案,對此一個基於雙軸振鏡的雷射掃描系統,能夠將數十微米的聚焦光點快速定位在曝光面的任意處,不過掃描過程中存在像場變…